中國(guó)科技大學(xué)合肥微尺度物質(zhì)實(shí)驗(yàn)室導(dǎo)師:劉穎

發(fā)布時(shí)間:2021-10-06 編輯:考研派小莉 推薦訪問(wèn):
中國(guó)科技大學(xué)合肥微尺度物質(zhì)實(shí)驗(yàn)室導(dǎo)師:劉穎

中國(guó)科技大學(xué)合肥微尺度物質(zhì)實(shí)驗(yàn)室導(dǎo)師:劉穎內(nèi)容如下,更多考研資訊請(qǐng)關(guān)注我們網(wǎng)站的更新!敬請(qǐng)收藏本站,或下載我們的考研派APP和考研派微信公眾號(hào)(里面有非常多的免費(fèi)考研資源可以領(lǐng)取,有各種考研問(wèn)題,也可直接加我們網(wǎng)站上的研究生學(xué)姐微信,全程免費(fèi)答疑,助各位考研一臂之力,爭(zhēng)取早日考上理想中的研究生院校。)

中國(guó)科技大學(xué)合肥微尺度物質(zhì)實(shí)驗(yàn)室導(dǎo)師:劉穎 正文

 


姓名: 劉穎
職稱(chēng): 副研究員
電話: 0551--3601992-1076
傳真: 0551--5141078
郵箱: liuychch@ustc.edu.cn
網(wǎng)站:  

  個(gè)人詳細(xì)信息
  1.個(gè)人學(xué)習(xí)、工作及研究經(jīng)歷1990-1994 長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械學(xué)院 理學(xué)學(xué)士1994-1996 中科院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械研究所應(yīng)用光學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室1996-2001 中科院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械研究所 理學(xué)博士畢業(yè)2001-至今 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)國(guó)家同步輻射實(shí)驗(yàn)室2009-2010 德國(guó)弗雷德里希•席勒 耶拿大學(xué)(Friedrich Schiller University Jena)應(yīng)用物理研究所 中科院公派訪問(wèn)學(xué)者 2.主要研究方向軟X射線-真空紫外光學(xué) 衍射光學(xué) 微制作技術(shù) 3.代表性科研成果期刊文章(* 通訊作者):
  1)Shengnan He,Ying Liu*,Jingtao Zhu,Haochuan Li,Qiushi Huang,Hongjun Zhou,Tonglin Huo,Zhanshan Wang,and Shaojun Fu,"SiC/W/Ir multilayer-coated grating for enhanced efficiency in 50–100 nm wavelength range in Seya–Namioka mount," Opt.Lett.36(2),163-165 (2011).
  2)Shengnan He,Ying Liu*,Keqiang Qiu,Hongjun Zhou,Tonglin Huo,and Shaojun Fu,“Efficiency measurement of optical components in 45-110 nm range at beamline U27,HLS,” Chin.Opt.Lett.8(12),1131-1134 (2010).
  3)Ying Liu*,Hans-Jörg Fuchs,Zhengkun Liu,Huoyao Chen,Shengnan He,Shaojun Fu,Ernst-Bernhard Kley,and Andreas Tünnermann,“Investigation on the properties of a laminar grating as a soft x-ray beam splitter,” Appl.Opt.49(23),4450-4459 (2010).
  4)Ying Liu*,Xin Tan,Zhengkun Liu,Xiangdong Xu,Yilin Hong,and Shaojun Fu*,“Soft X-ray holographic grating beam splitter including a double frequency grating for interferometer pre-alignment,” Opt.Express 16(19),14761-14770 (2008).
  5)Xudi Wang*,Ying Liu,Xiangdong Xu,Shaojun Fu*,and Zheng Cui,“Reactive ion beam etching of HfO2 film and removal of sidewall redeposition,” J.Vac.Sci.Technol.A 24(4),1067-1072 (2006).

  授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利:
  1)X射線全息衍射光柵分束器,授權(quán)號(hào) ZL 200810024295.0.
  2)光柵離子束刻蝕的光學(xué)在線檢測(cè)裝置及檢測(cè)方法,授權(quán)號(hào) ZL 200710020220.0.
  3)位相型朗奇光柵槽深的光學(xué)檢測(cè)方法,發(fā)明專(zhuān)利,授權(quán)號(hào) ZL 200810021578.x.
  4)具有刻蝕深度在線檢測(cè)機(jī)構(gòu)的衍射光學(xué)元件掃描刻蝕裝置,授權(quán)號(hào) ZL 200810025255.8.

  *如果發(fā)現(xiàn)導(dǎo)師信息存在錯(cuò)誤或者偏差,歡迎隨時(shí)與我們聯(lián)系,以便進(jìn)行更新完善。

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