2022山東師范大學(xué)光學(xué),光學(xué)工程,物理學(xué)考研調(diào)劑信息
更新時間:2022-03-26T10:19:39 編輯:考研派調(diào)劑中心
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學(xué)校省份:山東
學(xué)校名稱:山東師范大學(xué)
學(xué)院名稱:暫無
專業(yè)名稱:光學(xué),光學(xué)工程,物理學(xué)
專業(yè)類型:學(xué)碩/專碩
學(xué)習(xí)方式:全日制/非全日制
招收人數(shù):6
發(fā)布渠道:網(wǎng)絡(luò)發(fā)布
原文鏈接:暫無
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調(diào)劑要求信息:
2022山東師范大學(xué)光學(xué),光學(xué)工程,物理學(xué)考研調(diào)劑信息:主要研究方向:表面離激元與微納光子學(xué),微納結(jié)構(gòu)制備技術(shù),納米材料的光學(xué)性質(zhì)。在半導(dǎo)體、光學(xué)AR/VR方向就業(yè)前景廣闊。
導(dǎo)師介紹:
http://www.physics.sdnu.edu.cn/info/1172/6657.htm
課題組所在的光場調(diào)控及應(yīng)用中心位于山東師范大學(xué)文淵樓D區(qū),配備咖啡廳等休閑區(qū)域,辦公區(qū)域開闊。
實(shí)驗(yàn)室設(shè)備齊全,日常操作各種高精尖微納制備設(shè)備,培養(yǎng)科研動手和解決問題的能力,尤其適合喜愛挑戰(zhàn)自己的同學(xué)。
(1)物理學(xué)學(xué)術(shù)型:英語一,量子力學(xué),普物
或者(2)光學(xué)工程:初試專業(yè)課為數(shù)學(xué)一(學(xué)術(shù))、數(shù)學(xué)二(專業(yè))、光學(xué)。復(fù)試科目統(tǒng)一為模擬電路。
平常需要在超凈室內(nèi)做微納米制備(半導(dǎo)體集成工藝,電子束曝光,等)或者光學(xué)測試(涉及顯微光譜、飛秒激光等)。
需要較強(qiáng)的動手能力,吃苦耐勞,肯鉆研學(xué)術(shù)。
郵件標(biāo)題格式:本科畢業(yè)學(xué)校 + 本科專業(yè) + 英語一xx分 + 數(shù)學(xué)一xx分
附材料:詳細(xì)簡歷+本科成績單,不要任何壓縮包
本科主干課程包含物理光學(xué)、半導(dǎo)體物理與器件、固體物理、電磁場理論或相關(guān)課程至少一門;英語cet-6, 單片機(jī)、fpga、arm等開發(fā)經(jīng)驗(yàn),或其他實(shí)驗(yàn)室科研經(jīng)歷
實(shí)驗(yàn)室設(shè)備介紹:http://www.gctk.sdnu.edu.cn/yqsb.htm
電子束曝光系統(tǒng)
品牌及型號:德國Raith Voyager (http://www.raithchina.com/products/voyager.html)
50kV電子束曝光系統(tǒng)(electron beam lithography)是用電子束照射光刻膠,經(jīng)顯影后在光刻膠中產(chǎn)生圖形的一種微納加工技術(shù),曝光精度達(dá)到納米量級,具有超高分辨率,并且實(shí)現(xiàn)高速曝光的同時系統(tǒng)良好的穩(wěn)定性可以保證大面積均勻曝光,支持周期結(jié)構(gòu)無寫場拼接的曝光模式。
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
品牌及型號:美國Detech公司DE500C (http://deproducts.com/products/id-14.html)
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)是一種適合于前沿研究的薄膜制備技術(shù),在真空條件下電子槍燈絲加熱后發(fā)射熱電子,被加速陽極加速,獲得很大的動能并且準(zhǔn)確轟擊坩堝內(nèi)靶材,使靶材融化進(jìn)而蒸鍍在基底上形成薄膜。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中,使鍍膜材料局部達(dá)到高溫而蒸發(fā)。通過調(diào)節(jié)電子束的功率,可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率,特別是有利于高熔點(diǎn)以及高純金屬和化合物材料。廣泛應(yīng)用于物理,生物,化學(xué),材料以及電子等領(lǐng)域。
電感耦合等離子體增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)
品牌及型號:牛津儀器PlasmaPro 80 Cobra (https://plasma.oxinst.cn/products/icp-etching/80icp)
系統(tǒng)通入反應(yīng)氣體使用電感耦合形成的等離子體輝光放電將氣體分解,產(chǎn)生的具有強(qiáng)化學(xué)活性的等離子體在電場加速作用下移動到樣品表面,對樣品表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成揮發(fā)氣體,又有一定的物理刻蝕作用,該設(shè)備通過優(yōu)化的電極冷卻技術(shù)和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。廣泛應(yīng)用于III-V族材料刻蝕工藝,二氧化硅和石英刻蝕,硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝,用于失效分析的干法刻蝕解剖工藝,可處理封裝好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圓等。
飛秒激光系統(tǒng)
采用Spectra-Physics公司的Solstice Ace系統(tǒng),其繼承了無需調(diào)整的安裝硬件,單獨(dú)的模塊化組件,能夠在10°C的溫度范圍內(nèi)運(yùn)行。Solstice Ace使用無調(diào)整的光學(xué)支架,可以保持穩(wěn)定性和性能。Solstice Ace 在1kHz時提供>7W的功率,在5kHz時提供>8W的功率,在10kHz時提供>7W的功率,脈沖寬度在小于35fs至小于120fs之間,光束質(zhì)量優(yōu)異。
拉曼成像系統(tǒng)
采用WITec公司的300R系統(tǒng),當(dāng)使用共聚焦顯微鏡結(jié)合光譜儀在每個測量點(diǎn)收集拉曼光譜或熒光光譜時,可以生成拉曼圖像或者熒光圖像,使樣品化合物的分布可視化。由于WITec拉曼系統(tǒng)的高度一致性,還可以生成體積掃描和3D圖像。
導(dǎo)師介紹:
http://www.physics.sdnu.edu.cn/info/1172/6657.htm
課題組所在的光場調(diào)控及應(yīng)用中心位于山東師范大學(xué)文淵樓D區(qū),配備咖啡廳等休閑區(qū)域,辦公區(qū)域開闊。
實(shí)驗(yàn)室設(shè)備齊全,日常操作各種高精尖微納制備設(shè)備,培養(yǎng)科研動手和解決問題的能力,尤其適合喜愛挑戰(zhàn)自己的同學(xué)。
(1)物理學(xué)學(xué)術(shù)型:英語一,量子力學(xué),普物
或者(2)光學(xué)工程:初試專業(yè)課為數(shù)學(xué)一(學(xué)術(shù))、數(shù)學(xué)二(專業(yè))、光學(xué)。復(fù)試科目統(tǒng)一為模擬電路。
平常需要在超凈室內(nèi)做微納米制備(半導(dǎo)體集成工藝,電子束曝光,等)或者光學(xué)測試(涉及顯微光譜、飛秒激光等)。
需要較強(qiáng)的動手能力,吃苦耐勞,肯鉆研學(xué)術(shù)。
郵件標(biāo)題格式:本科畢業(yè)學(xué)校 + 本科專業(yè) + 英語一xx分 + 數(shù)學(xué)一xx分
附材料:詳細(xì)簡歷+本科成績單,不要任何壓縮包
本科主干課程包含物理光學(xué)、半導(dǎo)體物理與器件、固體物理、電磁場理論或相關(guān)課程至少一門;英語cet-6, 單片機(jī)、fpga、arm等開發(fā)經(jīng)驗(yàn),或其他實(shí)驗(yàn)室科研經(jīng)歷
實(shí)驗(yàn)室設(shè)備介紹:http://www.gctk.sdnu.edu.cn/yqsb.htm
電子束曝光系統(tǒng)
品牌及型號:德國Raith Voyager (http://www.raithchina.com/products/voyager.html)
50kV電子束曝光系統(tǒng)(electron beam lithography)是用電子束照射光刻膠,經(jīng)顯影后在光刻膠中產(chǎn)生圖形的一種微納加工技術(shù),曝光精度達(dá)到納米量級,具有超高分辨率,并且實(shí)現(xiàn)高速曝光的同時系統(tǒng)良好的穩(wěn)定性可以保證大面積均勻曝光,支持周期結(jié)構(gòu)無寫場拼接的曝光模式。
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
品牌及型號:美國Detech公司DE500C (http://deproducts.com/products/id-14.html)
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)是一種適合于前沿研究的薄膜制備技術(shù),在真空條件下電子槍燈絲加熱后發(fā)射熱電子,被加速陽極加速,獲得很大的動能并且準(zhǔn)確轟擊坩堝內(nèi)靶材,使靶材融化進(jìn)而蒸鍍在基底上形成薄膜。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中,使鍍膜材料局部達(dá)到高溫而蒸發(fā)。通過調(diào)節(jié)電子束的功率,可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率,特別是有利于高熔點(diǎn)以及高純金屬和化合物材料。廣泛應(yīng)用于物理,生物,化學(xué),材料以及電子等領(lǐng)域。
電感耦合等離子體增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)
品牌及型號:牛津儀器PlasmaPro 80 Cobra (https://plasma.oxinst.cn/products/icp-etching/80icp)
系統(tǒng)通入反應(yīng)氣體使用電感耦合形成的等離子體輝光放電將氣體分解,產(chǎn)生的具有強(qiáng)化學(xué)活性的等離子體在電場加速作用下移動到樣品表面,對樣品表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成揮發(fā)氣體,又有一定的物理刻蝕作用,該設(shè)備通過優(yōu)化的電極冷卻技術(shù)和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。廣泛應(yīng)用于III-V族材料刻蝕工藝,二氧化硅和石英刻蝕,硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝,用于失效分析的干法刻蝕解剖工藝,可處理封裝好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圓等。
飛秒激光系統(tǒng)
采用Spectra-Physics公司的Solstice Ace系統(tǒng),其繼承了無需調(diào)整的安裝硬件,單獨(dú)的模塊化組件,能夠在10°C的溫度范圍內(nèi)運(yùn)行。Solstice Ace使用無調(diào)整的光學(xué)支架,可以保持穩(wěn)定性和性能。Solstice Ace 在1kHz時提供>7W的功率,在5kHz時提供>8W的功率,在10kHz時提供>7W的功率,脈沖寬度在小于35fs至小于120fs之間,光束質(zhì)量優(yōu)異。
拉曼成像系統(tǒng)
采用WITec公司的300R系統(tǒng),當(dāng)使用共聚焦顯微鏡結(jié)合光譜儀在每個測量點(diǎn)收集拉曼光譜或熒光光譜時,可以生成拉曼圖像或者熒光圖像,使樣品化合物的分布可視化。由于WITec拉曼系統(tǒng)的高度一致性,還可以生成體積掃描和3D圖像。
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