2021遼寧大學(xué)微電子學(xué)基礎(chǔ)專業(yè)研究生考試大綱
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2021遼寧大學(xué)微電子學(xué)基礎(chǔ)專業(yè)研究生考試大綱 正文
一、總體要求主要考察學(xué)生掌握“微電子器件及集成電路”的基本知識(shí)、基本理論的情況,以及用這些基本知識(shí)和基本理論分析問題和解決問題的能力。
二、考試內(nèi)容
微電子學(xué)基礎(chǔ)的考試內(nèi)容由兩部分構(gòu)成,分別為《微電子器件》和《半導(dǎo)體集成電路》的基礎(chǔ)知識(shí)。具體如下:
(一)《微電子器件》考試內(nèi)容
1.半導(dǎo)體器件基本方程
1)一維形式的半導(dǎo)體器件基本方程
2)基本方程的主要簡化形式
2.PN結(jié)
1)突變結(jié)與線性緩變結(jié)的定義
2)PN結(jié)空間電荷區(qū)的形成
3)耗盡近似與中性近似
4)耗盡區(qū)寬度、內(nèi)建電場與內(nèi)建電勢的計(jì)算
5)正向及反向電壓下PN結(jié)中的載流子運(yùn)動(dòng)情況
6)PN結(jié)的能帶圖
7)PN結(jié)的少子分布圖
8)PN結(jié)的直流伏安特性
9)PN結(jié)反向飽和電流的計(jì)算及影響因素
10)薄基區(qū)二極管的特點(diǎn)
11)大注入效應(yīng)
12)PN結(jié)雪崩擊穿的機(jī)理、雪崩擊穿電壓的計(jì)算及影響因素、齊納擊穿的機(jī)理及特點(diǎn)、熱擊穿的機(jī)理
13)PN結(jié)勢壘電容與擴(kuò)散電容的定義、計(jì)算與特點(diǎn)
14)PN結(jié)的交流小信號(hào)參數(shù)與等效電路
15)PN結(jié)的開關(guān)特性與少子存儲(chǔ)效應(yīng)
3.雙極型晶體管
1)雙極型晶體管在四種工作狀態(tài)下的少子分布圖與能帶圖
2)基區(qū)輸運(yùn)系數(shù)與發(fā)射結(jié)注入效率的定義及計(jì)算
3)共基極與共發(fā)射極直流電流放大系數(shù)的定義及計(jì)算
4)基區(qū)渡越時(shí)間的概念及計(jì)算
5)緩變基區(qū)晶體管的特點(diǎn)
6)小電流時(shí)電流放大系數(shù)的下降
7)發(fā)射區(qū)重?fù)诫s效應(yīng)
8)晶體管的直流電流電壓方程、晶體管的直流輸出特性曲線圖
9)基區(qū)寬度調(diào)變效應(yīng)
10)晶體管各種反向電流的定義與測量
11)晶體管各種擊穿電壓的定義與測量、基區(qū)穿通效應(yīng)
12)方塊電阻的概念及計(jì)算
13)晶體管的小信號(hào)參數(shù)
14)晶體管的電流放大系數(shù)與頻率的關(guān)系、組成晶體管信號(hào)延遲時(shí)間的四個(gè)主要時(shí)間常數(shù)、高頻晶體管特征頻率的定義、計(jì)算與測量、影響特征頻率的主要因素
15)高頻晶體管最大功率增益與最高振蕩頻率的定義與計(jì)算,影響功率增益的主要因素
4.絕緣柵場效應(yīng)晶體管(MOSFET)
1)MOSFET的類型與基本結(jié)構(gòu)
2)MOSFET的工作原理
3)MOSFET閾電壓的定義、計(jì)算與測量、影響閾電壓的各種因素、閾電壓的襯底偏置效應(yīng)
4)MOSFET在非飽和區(qū)的簡化的直流電流電壓方程
5)MOSFET的飽和漏源電壓與飽和漏極電流的定義與計(jì)算
6)MOSFET的輸出特性和轉(zhuǎn)移特性(包括常見的二級(jí)效應(yīng))
(二)《半導(dǎo)體集成電路》考試內(nèi)容
1、常見MOS反相器(電阻、E/E飽和型、E/E非飽和型和E/DMOS)基本工作原理及其瞬態(tài)特性
1)常見MOS反相器的靜態(tài)特性。
2)常見MOS反相器的傳輸特性。
3)常見MOS反相器的噪聲特性.
4) 常見MOS反相器的瞬態(tài)特性。
5) 常見MOS反相器的速度功耗乘積。
2、CMOS反相器基本工作原理及其瞬態(tài)特性
1) CMOS反相器的靜態(tài)特性。
2) CMOS反相器的傳輸特性。
3) CMOS反相器的噪聲特性。
4) CMOS反相器閾值電平。
3、MOS傳輸門的基本工作原理
1) NMOS傳輸門傳輸過程
2) PMOS傳輸門傳輸過程
3) CMOS傳輸門傳輸過程
4、MOS門電路的設(shè)計(jì)
1) NMOS傳輸門門電路設(shè)計(jì)(與、或、與非、或非、與或非、異或、同或)
2) CMOS傳輸門門電路設(shè)計(jì)(與、或、與非、或非、與或非、異或、同或)
5、集成電路工藝流程
1) Bipolar IC工藝流程
2) CMOS IC工藝流程
6、模擬基本放大電路的工作原理
1)共射、共基、共集電放大電路的靜態(tài)工作點(diǎn)設(shè)置
2)共射、共基、共集電放大電路的交流小信號(hào)等效電路
3)共射、共基、共集電放大電路的電壓放大倍數(shù)、輸入電阻和輸出電阻的求解
4)基本放大電路飽和失真和截止失真產(chǎn)生的原因,如何消除基本放大電路所處失真狀態(tài)
遼寧大學(xué)
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